设备用途：用于大规模集成电路、电力电子、光电器件、光导纤维等行业的氧化、扩散、烧结、合金等工艺。
设备特点：单元组合方式。根据工艺的不同，可以在主机的基础上配气源柜、超净工作台、悬臂推拉舟等。
主要技术指标：
★ 炉管数：1～4管
★ 配工艺管口径：Φ90～360 mm (3～12英寸)
★ 恒温区长度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)
★ 单点稳定性： ±1.0℃/24h (300～800℃) ±0.5℃/24h (800～1280℃)
★ 气源路数： ≤7路，可配恒温源瓶、氢氧合成点火器
★ 气体控制： 浮子/质量流量计
★ 悬臂舟参数： 速度： 20～1000 mm/min 最大行程：2000 mm 定位精度：±1 mm 最大载荷：17 Kg
★ 超净工作台： 净化等级：100级（万级厂房）
噪音： ≤62dB（A）
振动： ≤3μm
晨立扩散炉设备,技术和质量已达国际水平,受到半导体设备制造企业和半导体行业高度关注.可完全替代国外同规格高端产品满足不同工艺的要求  .
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